1个月19傍晚，国内半导体材料公司京瑞股份发布公告，声称已购买ASML该公司的光刻机将用于高端光刻胶项目。
景瑞说，自公司开始设备采购活动以来，受到了投资者的广泛关注。
经过公司多方协商和积极运作，已成功购买ASML XT1900 Gi一种光刻机该设备是2021年年1个第1个月9它到达苏州，并成功地搬入了该公司的高端光刻胶研发实验室。
下一步，公司将积极组织相关资源，以尽快完成设备的安装和调试。
根据经瑞信息，公司购买的光刻设备为ASML XT 1900 Gi类型氩气浸没式光刻机可用于开发最高分辨率28纳米高端光刻胶。
此外，28纳米光刻机水平ASML该公司没有很多先进型号，官方网站上列出的最旧的浸没式光刻机型号也是XT1965CI可用于20纳米以下过程。
但是，晶锐公司购买的光刻机成本较高1102.5一万美元，约人民币7129一万元很有价值。
晶锐公司表示，该公司已批量生产光刻胶已有近30年的时间，并在中国建立了领先的光刻胶研发团队。 在光致抗蚀剂的研发和生产方面具有丰富的经验。 特殊项目，科技部创新基金等科技项目，承担了国家02重大专项“ i-line光致抗蚀剂产品开发与产业化”项目，并顺利通过了国家02重大专项验收。
该公司完成中试的KrF光刻胶已进入客户测试阶段，分辨率达到0.15μm。
这次购买的ASML光刻设备是该公司用于集成电路制造的高端光刻胶研发项目的必要实验设备。 目的是开发高端ArF光刻胶。 如果研发工作顺利进行，将有助于该公司在光致抗蚀剂产品序列上实现向ArF光致抗蚀剂的飞跃，并最终实现了12英寸芯片制造的战略布局。
– 结束 –
请指出转载来源：快速技术
＃阿斯默＃平版印刷＃光刻胶
主编：鲜瑞